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Enlace: http://www.ucm.es/info/gpdym/frames.html

Descripción: U. Complutense de Madrid.
Procesos de Implantación Iónica en Semiconductores Compuestos III-V. Depósito y Caracterización de Láminas Delgadas de SiNx:H, SiOxNy, SiOx. Realización y Caracterización de Estructuras Metal Aislante Semiconductor. Realización y Caracterización de Transmisores MISFET. Realización y Caracterización de Uniones Josephson en Superconductores de Alta Temperatura.

Palabras clave: UNIVERSIDAD COMPLUTENSE,MATERIA CONDENSADA,ELECTRONICA,ELECTRICIDAD,